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磁控溅射镀膜超窄带滤光片
更新时间:2020-04-16
厂家性质:生产厂家
访问量:3008
产品特点:溅射镀膜是在真空条件下,利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。溅射镀膜具有膜层和基体的附着力强,膜层均匀性好等优点,适合各种金属、氧化物、半导体薄膜的制备,广泛应用于光伏、LED、微电子、硬质薄膜等领域。656nm磁控溅射镀膜超窄带滤光片
656nm磁控溅射镀膜超窄带滤光片
溅射镀膜是在真空条件下,利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。溅射镀膜具有膜层和基体的附着力强,膜层均匀性好等优点,适合各种金属、氧化物、半导体薄膜的制备,广泛应用于光伏、LED、微电子、硬质薄膜等领域。
一般情况下,绝大多数超窄带滤光片,带宽<2nm成品率较低,价格也较高,2-5nm的带宽为绝大多数超窄带滤光片工业用户的批量采购选择。
超窄带滤光片其主要参数有:中心波长、半高宽(带宽)、峰值透过率、截止范围、截止深度(OD值)
中心波长:一般就是仪器或设备的工作波长,它是指通带中心位置的波长。
半高宽(带宽):带宽是指通带中透过率为峰值透过率的一半的两个位置之间的距离,有时也叫半高宽(不叫半带宽),英文字母经常用FWHM(Full Width at Half Maximum)表示。
峰值透过率:指带通滤光片在通带中zui高的透过率大小。
截止范围:截止范围是指除了通带以外,要求截止的波长范围。对于窄带来说,有一段是前截止,就是截止波长小于中心波长的一段,还有一段长截止,截止波长高于中心波长的那一段。
截止深度(OD值):截止深度是指截止带中允许能透过光的大透过率大小。对不同的应用系统对截止深度要求不同,比如对于使用在激发光荧光的场合,一般要求截止深度在T<0.001%以下,在普通的监控识别系统中,截止深度T<0.5%有时已经足够。为简便起见,经常用OD值来表示截止深度。OD=-lgT
用途:机器视觉、生化分析、光学仪器、光谱测量等领域
类型:一般瑞研光学可做200nm-2000nm以内的任意个波长,透过率大于70%以上,如果是磁控溅射镀膜,透过率大于90%;
截止深度有OD4-OD6;大于OD6成品率较低,可提供小批量定制服务
中心波长656nm
中心波长偏差:±1nm
带宽2nm;3nm;4nm;5nm
直径12.7mm,12.5mm,25mm,30mm等
厚度1mm;2mm;2.5mm
外环封装厚度3.5mm,5mm,6mm
透过率大于80%;大于90%
截止范围200-800nm;200-1000nm;200-1200nm
截止深度大于OD4;大于OD5;>OD6
典型超窄带光谱曲线
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