光学窗口片抛光时间过长会出现的现象

点击次数：3354 更新时间：2019-12-16

　　光学窗口片研磨抛光阶段的工艺流程为：粗磨（一致化）-精磨（平坦化）-抛光（镜面化）。其中，粗磨和精磨阶段都是采取磨料冲击破碎蓝宝石表面的方式进行，为纯物理作用，抛光一般采用碱性二氧化硅溶胶，一边对蓝宝石表面进行轻微腐蚀，一边通过抛光垫扫除的方式达到镜面效果，为CMP抛光，即化学物理抛光法。

　　由以上流程可知，蓝宝石抛光是一个腐蚀—扫除的过程，其中，腐蚀的厚度仅仅达到埃米级。蓝宝石抛光完结应该是镜片的所有部分都达到镜面效果。

　　在日常加工中，经常碰到光学窗口片抛光过长的现象，时间太长的会出现以下现象：

　　1.长方形特别是长条形的四个角抛不透；

　　2.表面有坑点；

　　3.橘皮水纹等缺陷；

　　4.表面发蒙，雾化。

　　以上现象，除第三点外，基本都由研磨所产生。

　　光学窗口片的抛光是逐渐腐蚀的过程，而腐蚀的深度非常细微，蓝宝石抛光时间长，无非就是腐蚀还没达致全局，要想达致全局，只能延长抛光时间。

　　若光学窗口片表面出现坑点，该如何处理？

　　表面坑点有两种基本现象，一是个别坑点且全盘几乎每片都有；二是单片上密布坑点。头一种现象产生的原因是研磨砂个别大颗粒挤压产生的坑点，采取的方式是卸压，即将上盘的压力降低，甚至可以利用反压，同时注意分析是否有碎屑、铁屑或其他大号砂通过环境传输混入，若有此现象，必须清洗机器并过滤砂液，一般来讲，混入少量的大颗粒研磨砂，通过研磨一定的时间后会消除。

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